氣相沉積爐呢是一種真空設備，也就是要在一定真空環境下進行工作的。氣相沉積爐的主要部分有：真空反應室，抽氣組件，控制面板和水氣電的部分.
氣相沉積爐 而氣相沉積技術是一種快速發展以及應用廣的表面成膜技術，氣相沉積技術不僅僅可以用來制備各種特殊的力學性能的薄膜涂層，而且還能用來制備各種功能薄膜材料和裝飾薄膜涂層等。 氣相沉積技術可以分為物理氣相沉積（簡稱PVD）和化學氣相沉積（簡稱CVD）。其中化學氣相沉積用的是為廣泛，化學氣相沉積可以通過化學反應的方式，利用加熱、等離子激勵或光輻射等各種能源，用這種技術可以在反應器內使氣態或蒸汽狀態的化學物質在氣相或氣固界面上經化學反應形成固態的沉積物。
氣相沉積爐向您介紹就是兩種或者兩種以上的氣態原料通過導入到一個反應室內,然后他們之間發生化學反應，從而形成一種新形材料，沉積到基片表面上。而CVD和PVD相比，沉積過程要發生化學反應，這是一個氣象化學生長的過程。
